玻璃的突出性能使它在建筑材料方面的應(yīng)用獨(dú)樹(shù)一幟，玻璃的批量生產(chǎn)、制成簡(jiǎn)單和低成本是可以實(shí)現(xiàn)的，玻璃有非常強(qiáng)的環(huán)境穩(wěn)定性和抗劃傷性，可見(jiàn)光高透過(guò)率使之能真實(shí)地反映外界環(huán)境。所有這些性能使玻璃在建筑和交通方面用量很大，并且，玻璃是現(xiàn)代重要的信息和通訊材料之一，TV屏幕和數(shù)據(jù)顯示市場(chǎng)的迅速增長(zhǎng)要求在玻璃表面鍍制各種膜層。玻璃在許多方面的應(yīng)用并不完美，尤其是建筑方面。一方面，玻璃遠(yuǎn)紅外（室內(nèi)輻射）的低反射導(dǎo)致寒冷地區(qū)室內(nèi)熱量的不必要損失，另一方面，近紅外的高透過(guò)增加了炎熱 地區(qū)的室內(nèi)熱量。在可見(jiàn)光部分，玻璃的反射率是8.4%（單面4.2%），這種反射在某些地方令人惱火，如：在許多地方不可少的光學(xué)棱鏡系統(tǒng)。 玻璃經(jīng)過(guò)精心的膜層設(shè)計(jì)，可以克服這些缺點(diǎn)，自70年代末以來(lái)，玻璃基體上大面積光學(xué)薄膜真空沉積技術(shù)穩(wěn)步增長(zhǎng)，現(xiàn)在，世界范圍內(nèi)每年真空系統(tǒng)生產(chǎn)的用在建筑和汽車方面的玻璃的產(chǎn)量達(dá)1.2億平方米，是1992年的兩倍，主要應(yīng)用是Low-E和光控薄膜。自80年代末，鍍膜玻璃市場(chǎng)得到新的迅速增長(zhǎng)：平板顯示器工業(yè)。高性能的透明導(dǎo)電ITO膜層是液晶顯示器制造的基礎(chǔ)。 新的挑戰(zhàn)和機(jī)遇顯露出來(lái)，如：用于太陽(yáng)能電池的鍍鉻薄膜。 由于磁控濺射徑向高的等離子密度和等離子分布一致性，使工業(yè)生產(chǎn)比較經(jīng)濟(jì)，且有良好的均勻性，因而磁控濺射成了大面積鍍膜的主導(dǎo)技術(shù)。然而它在絕緣材料沉積方面存在一些嚴(yán)重缺陷，在過(guò)去十年，反應(yīng)磁控濺射，如：SiO2、Si3N4和TiO2的沉積，經(jīng)歷了長(zhǎng)期穩(wěn)定的發(fā)展，中頻反應(yīng)孿生靶濺射（TwinMag）可以沉積優(yōu)良的膜層。
大面積玻璃鍍膜的應(yīng)用 2.1液晶顯示器（LCD）用ITO膜 制造LCD的重要、關(guān)鍵的過(guò)程之一是沉積ITO作為透明導(dǎo)電電極。 ITO沉積的關(guān)鍵因素如下：
（1） 低電阻率（<150μΩ/cm）
（2） 高的縱向均勻性（Δd/d<±5%，d：厚度）
（3） 低污染
（4） 低制造成本 高密度ITO靶濺射沉積是比較優(yōu)秀的沉積技術(shù)，為了得到最低的電阻率，玻璃基片要加熱到3800C，并且，通過(guò)降低陰極放電電壓，可以最低限度地減少負(fù)電荷的轟擊缺陷，從而提高電導(dǎo)率。使用強(qiáng)的永久磁體，可以實(shí)現(xiàn)放電電壓-240V，電導(dǎo)率120μΩ。然而，彩色濾光片基片的沉積溫度是2000C以上，這對(duì)濾光材料的熱敏感性而言是不現(xiàn)實(shí)的。為了得到低的面電阻，必須進(jìn)一步降低放電電壓。此外，必須提高ITO靶材的利用率以降低生產(chǎn)成本。（標(biāo)準(zhǔn)磁控的靶材利用率為22-25%）。
上述兩個(gè)要求促使電源DC+RF驅(qū)動(dòng)的MoveMag陰極的發(fā)展。 MoveMag陰極的永磁體產(chǎn)生的雙軌道在靶面交替出現(xiàn)，擴(kuò)大了刻蝕溝道，可以把靶材利用率提高到40%以上，電源DC+RF可以把放電電壓降低到100V以下。圖1給出了電阻率、沉積速率、DC電壓與不同的電源DC+RF之間的關(guān)系，在RF占50%時(shí)，在2000C 基片上得到最優(yōu)電阻率150μΩ/cm。