Hilfiker說(shuō)：“當(dāng)某些東西真正變得非常薄時(shí)，其它的分析技術(shù)就會(huì)土崩瓦解，但分光橢偏測(cè)量術(shù)則可用來(lái)測(cè)量相位信息，這種信息對(duì)小于10納米的薄膜來(lái)說(shuō)是非常重要的”。
綜合光學(xué)表面分析儀
 一些儀器開(kāi)發(fā)商相信：提供更多表面或鍍膜信息的最好辦法是把幾種技術(shù)綜合在一起，主要理由是：不同缺陷產(chǎn)生的信號(hào)，容易被一種光學(xué)技術(shù)探測(cè)，但采用另一種技術(shù)時(shí)，卻很難發(fā)現(xiàn)1。例如，表面光度儀能發(fā)現(xiàn)小丘，或透明晶片上的類似問(wèn)題，但沾污只能用橢偏計(jì)或反射計(jì)探測(cè)。同樣地，散射計(jì)不能探測(cè)的淺坑，用橢偏計(jì)卻能清楚地探測(cè)出來(lái)。
 這是Candela  Instruments(Fremont,  CA;  now  a  division  of  KLA-Tencor)綜合光學(xué)表面分析儀(OSA)的主要設(shè)計(jì)思想。將OSA、橢偏計(jì)、反射計(jì)、散射計(jì)和光學(xué)輪廓計(jì)組裝在一個(gè)光學(xué)頭內(nèi),就可以同時(shí)測(cè)量許多表面缺陷，并對(duì)它們進(jìn)行分類。  在這個(gè)OSA中，有一個(gè)激光器，它產(chǎn)生的激光束沿大入射角的方向傳播,  允許它與襯底表面發(fā)生相互作用，并從表面反射(或散射)出來(lái)。反射光束進(jìn)入光學(xué)輪廓計(jì)、反射計(jì)和橢偏計(jì)通道。散射光束通過(guò)積分球探測(cè)。此外，OSA還用一個(gè)空間濾波器來(lái)阻止從透明晶片背面反射回來(lái)的信號(hào),使OSA只能看到透明晶片上表面的缺陷。這一技術(shù)已經(jīng)成功地用來(lái)探測(cè)和分類坑、突起、沾污、擦傷、微粒和晶體缺陷(見(jiàn)圖3)。據(jù)Candela的技術(shù)副總裁Steven  Meeks說(shuō)：OSA能檢查透明晶片，這種透明晶片被廣泛用于高亮度LED、激光二極管和下一代集成電路,  如在混合汽車、雷達(dá)系統(tǒng)和電源中使用的集成電路。
 在藍(lán)寶石上的GaN層中，某缺陷的鏡面反射像(上圖)放射狀形貌圖(下圖)。它們表明：襯底里面的裂縫已經(jīng)影響到外延生長(zhǎng)。  鏡面反射信號(hào)隨該層光學(xué)性質(zhì)的變化而變化，從而引起干涉條紋。拓?fù)湫盘?hào)隨表面高度變化而變，它表明缺陷中心有一個(gè)坑，缺陷的直徑約為1.5毫米。
 他說(shuō)：“這是一個(gè)多功能工具,一些用戶測(cè)量形貌以確定襯底的粗糙程度,而另外一些用戶則對(duì)微小管道感興趣,如表面有多少微管，以及它們?nèi)绾畏植嫉�。但是，在�?shù)據(jù)存儲(chǔ)、缺陷探測(cè)和過(guò)程控制領(lǐng)域，這種儀器已經(jīng)變成了一種標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備，化合物半導(dǎo)體工業(yè)也有同樣的需要。人們可以從同樣的檢測(cè)技術(shù)中受益：改善工藝過(guò)程，提高產(chǎn)量”。