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  • 大口徑高精度方形平面光學(xué)元件研制技術(shù)

    作者:佚名 來源:本站收集 時間:2011-11-25 22:12 閱讀:1628 [投稿]
    采用環(huán)行拋光技術(shù)實現(xiàn)大尺寸、高面形精度和細(xì)表面粗糙度要求的方形或長方形平面元件批量化加工的一條有效途徑。
    (3)方形元件的環(huán)行精拋光。大口徑方形元件的精拋光采用環(huán)形拋光技術(shù)加工。在環(huán)形拋光過程中,首先需要膠盤的面形要良好,在上拋光工件之前就應(yīng)該將拋光膠盤修正到一定的精度,并且希望在加工過程中膠盤一直保持這種良好狀態(tài),直到光學(xué)元部件達(dá)到所要求的精度為止。在實際加工的整個過程中,保持一致狀態(tài)是不太現(xiàn)實的,需要根據(jù)膠盤面形及工件面形的實際情況而定。通過調(diào)整校正盤的位置狀態(tài),讓膠盤盡可能保持所需要的面形,以便高效地加工相應(yīng)的工件。方形元件在拋光過程中的情況如圖所示。
    在實際的環(huán)行拋光加工過程中,總是將3臺一組的環(huán)拋機群中的一臺膠盤面形保持微凹,一臺膠盤面形保持微凸,一臺用作最后的面形修正。這樣可以針對不同初拋光的不同加工件的不同面形狀況選擇相應(yīng)的環(huán)行拋光機,節(jié)約修正膠盤面形的時間,提高工件的加工效率。.
    在加工工件的過程中,最重要的盡可能保證膠盤面形良好。在精拋光過程中,調(diào)整校正盤的位置時,調(diào)整幅度盡可能小一些,有利于膠盤與校正盤的面形相互磨合。當(dāng)校正盤的調(diào)節(jié)量較大時容易出現(xiàn)校正盤顫動現(xiàn)象,影響膠盤的修正,同時校正的面形難以保證,容易出現(xiàn)帶差,導(dǎo)致修整膠盤的時間比較多,真正加工工件的時間少,降低了加工效率。
    在加工大口徑方形元件的過程中容易出現(xiàn)四個角"踏"或"翹"的現(xiàn)象。為了克服加工過程中的邊緣效應(yīng),在實際加工過程中通過對專用工裝進(jìn)行改進(jìn),同時在加工過程中有意識地控制被加工件的工作位置狀態(tài),可以大大緩減大口徑方形元件加工"塌邊"或"翹邊"問題。
    被加工的方形元件在加工過程中容易出現(xiàn)對角塌角現(xiàn)象,筆者認(rèn)為是被加工件面形與膠盤面形不吻合或?qū)S霉ぱb設(shè)計上存在的一些不足引起的,通過改進(jìn)專用工裝,比較好地解決了這一問題。
    環(huán)拋大口徑高精度光學(xué)元部件時,加工精度達(dá)到0.8λ(P-V,λ=0.6328um)左右是容易的,收斂速度也比較快。當(dāng)精度越往上加工難度就越大,甚至出現(xiàn)加工精度反復(fù)。當(dāng)加工精度達(dá)到λ/2(P-V,λ=0.6328um)左右時,工件單次加工時間就越來越短,檢測的頻率就更快,以便保證被加工件的收斂趨勢及精度。
    用環(huán)行拋光技術(shù)加工,需在投射波前要求的高精度光學(xué)元部件透射兩面的面形精度及材料參數(shù)所引起的波前誤差,因此在加工透射波前所要求的光學(xué)部件時,在實際加工中常將方形元件的單面面形精度控制在λ/3左右。然后進(jìn)行第二面精度的修正,在第二面精度達(dá)到負(fù)λ/3左右時進(jìn)行透射波前檢驗,并進(jìn)行小量的修正,知道加工精度單次透射波前達(dá)到λ/6(P-V,λ=0.6328um)。加工反射波前所要求的光學(xué)元部件相對難度就要難度大一些,加工過程中主要解決"塌角"或"翹角"(主要是"塌角")現(xiàn)象,只要將"塌角"或"翹角"控制在一定范圍及精度內(nèi),則整個表面的反射波前達(dá)到λ/4(P-V,λ=0.6328um)是可能的。所加工的320×320×48mm和320×320×35mmUBK7材料的光學(xué)樣件經(jīng)24''相移干涉儀檢測,在鍍膜完工后通光口徑內(nèi)的結(jié)果如圖所示。
    4.結(jié)論
    雖然筆者在大型環(huán)拋機加工方面有了一定的加工經(jīng)驗,但還存在許多不足的地方。2m、2.5m環(huán)拋機加工工藝還不成熟,還有很多細(xì)節(jié)需要進(jìn)一步的研究。.1m環(huán)拋技術(shù)與2m環(huán)拋技術(shù)雖然在拋光原理上是一樣的,但直接將1m環(huán)拋上的加工經(jīng)驗移植到2m環(huán)拋機上進(jìn)行加工又不太適宜,而且2m環(huán)拋機對環(huán)境的要求比1m環(huán)拋機對環(huán)境的要求要嚴(yán)格得多。
    加工設(shè)備性能不穩(wěn)定。由于2m及2.5m環(huán)拋機在國內(nèi)都屬于新研制的大型光學(xué)加工設(shè)備,設(shè)備制造廠商缺少實際加工大口徑光學(xué)元部件設(shè)備的經(jīng)驗,有一些地方需要作進(jìn)一步的改進(jìn)。
    環(huán)拋加工受環(huán)境影響較大,對環(huán)境溫度及其波動大小、濕度、環(huán)境清潔都有較高的要求。下一步準(zhǔn)備進(jìn)一步凈化環(huán)拋加工環(huán)境,提高環(huán)拋設(shè)備加工的環(huán)境條件。
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