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  • ZEMAX SE與ZEMAX EE版本的區(qū)別

    作者:佚名 來源:光行天下論壇整理 時間:2011-03-18 15:34 閱讀:7570 [投稿]
    光學設計軟件ZEMAX是國內常用的光學軟件之一,ZEMAX SE與ZEMAX EE版本有哪些區(qū)別呢?
    光學設計軟件ZEMAX是國內常用的光學軟件之一,ZEMAX SE與ZEMAX EE版本有哪些區(qū)別呢?如下。 
    項 目功 能 參 數(shù)SEEE
    一般參數(shù)3D 光學位置(傾斜、旋轉、離軸) 
    不限制面、變量、優(yōu)化目標等的數(shù)目 
    光源類型點光源,激光二極管,橢圓、擴展光源、均勻、Gaussian、Lambertian 分布 
    用角度、物高、實際或近軸像高定義 
    面的類型球面、非球面、二次曲面、多項式非球面
    柱面、環(huán)面、x-y 多項式面、齒輪面、圓錐面、雙錐面 
    全息、衍射光柵、理想透鏡、ABCD 面、Fresnel 透鏡 
    圓環(huán)、矩形、橢圓和網格狀孔徑 
    漸變折射率透鏡
    能用非對稱二元光學/衍射光學、Zernike 面 --
    橢圓和 VLS 光柵、擴展齒輪面 --
    雙折射、自定義面及其它選擇的特殊面形 --
    優(yōu)化有 20 個缺省優(yōu)化函數(shù)的最小阻尼二乘法算法 
    全局優(yōu)化、MTF 和衍射能量優(yōu)化 
    宏或編輯的擴展項計算的優(yōu)化 
    公差分析對傾斜、離軸、所有結構參數(shù)、玻璃特性的優(yōu)化 
    RMS 彌散斑大小、波前、瞄準、MTF、用戶自定義標準 
    Sensitivity、Inverse sensitivity、Monte Carlo 分析 
    用程序語言公差分析 --
    工具鬼像焦點的產生、1 和 2 個面的反射 
    輸出到 CAD 程序的 IGES、SAT、STEP 固體模型數(shù)據 
    ZPL 宏語言 
    編輯自定義特性 --
    分析布局圖、零件圖、像差曲線、相對照度 
    點列圖、能量圖、Y-Ybar 圖、MTF、PSF 
    成像分析、光強直方圖、自定義光源成像 
    干涉圖、彩色焦移曲線、場曲和畸變等 
    偏振光分析、薄膜分析 --
    熱分析和優(yōu)化、TCE、dn/dt 
    --
    物理光學傳播 --

    非序列性光線追跡(僅 EE 版本才有的功能) 
    項目功能參數(shù)
    一般參數(shù)全局坐標中 3D 光學位置(相對物的位置)、對面、物、探測器和光線等的 數(shù)目沒有限制 
    光源類型點光源,激光二極管,橢圓、矩形、燈絲、體、面光源、Radiant Source 光源和自定義光源
    物件的類型三角形、矩形、橢圓、錐形、柱形、管狀、環(huán)面、棱鏡、Fresnel透鏡、傳 統(tǒng)透鏡、非球面、環(huán)形面、MEMS,CPC,衍射光學、全息、光柵和自定義的物件和棱鏡、 從 CAD輸入的文件介質可以是任意的玻璃、折射率漸變材料、吸收、反射或衍射、散射材料 薄膜可以放在任何物件的任何面上,
    工具輸出到 CAD程序的IGES、SAT、STEP格式的固體模型文件 可以看到任何點探測的能量,包括相干和非相干輻射及光強圖 
    分析一根光線可以在任何邊界分裂為任意數(shù)量的光線 
    任何物件上都可以進行體/面散射模擬 
    可以同時追跡多級次衍射的光線 
    追跡的光線數(shù)據可以保存起來作為序列性分析使用 
    使用實際的輻射度單位和光度學單位
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