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  • OpticStudio 14.2新版本功能介紹

    作者:佚名 來源:Zemax中國 時間:2014-08-12 00:30 閱讀:12695 [投稿]
    OpticStudio 14.2 包含新的功能特性和重要的系統(tǒng)性能提升。

    當 OpticStudio 在 Mac 上運行時使用現(xiàn)代圖形窗口存在一個問題,目前我們在研究一個 Parallels 虛擬化工具。其他 VM 安裝啟用都很順利。這個問題將通過發(fā)布 ZOS 或 Parallels 的一個服務包解決。 在發(fā)布修復之前,在 Mac 上安裝啟用 Parallels VMware 的用戶可以在“配置選項...圖形”下方選擇“啟用傳統(tǒng)視圖”。由此造成任何不便,我們深表歉意。

    錯誤修復

    實現(xiàn)了多項性能和穩(wěn)定性改進。

    Huygens MTF 分析的文本結(jié)果未正確縮放至最大值 1

    在重新加載膜層文件后,膜層分析(如反射與角)并不總是會進行更新

    幾何及衍射封閉能量分析的文本輸出不正確

    表面矢高分析的文本輸出在 Y 軸倒置,坐標系置中于孔而非表面

    當使用“物體即為探測器”及少于 200 條分析光線時,探測器查看器中報告的功率不正確

    當在陰影圖上使用“上次分析的彩色光線”并查看有關 STL 零件(已經(jīng)設為“對象即為探測器”)的結(jié)果時,在陰影圖中照亮的 STL 像素錯誤

    當修改目前活動的配置發(fā)生更改時,光斑圖沒有正確更新

    偏振光線軌跡報告的偏振橢圓方位角的結(jié)果,相對于偏振光瞳表報告的相同結(jié)果而言錯誤移動了 180 度。

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