隨著科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步， 光學(xué)薄膜及相關(guān)技術(shù)不論從廣度還是深度來看都得到了顯著發(fā)展， 并逐漸滲透到現(xiàn)代技術(shù)和高端技術(shù)等領(lǐng)域。對(duì)光學(xué)薄膜的3 種制備技術(shù)： 物理氣相學(xué)沉積( PVD) 化學(xué)氣相沉積( CVD) 和化學(xué)液相沉積( CLD) 進(jìn)行了分析，綜述了幾種新型光學(xué)薄膜( 金剛石薄膜及類金剛石薄膜 軟 X 射線多層膜 太陽能選擇性吸收膜 高強(qiáng)度激光膜) 的研究進(jìn)展以及光學(xué)薄膜的應(yīng)用情況。

光學(xué)薄膜技術(shù)是一門交叉性很強(qiáng)的學(xué)科， 它涉及到光電技術(shù)、真空技術(shù)、材料科學(xué)、精密機(jī)械制造、計(jì)算機(jī)技術(shù)、自動(dòng)控制技術(shù)等領(lǐng)域。光學(xué)薄膜是一類重要的光學(xué)元件， 它廣泛地應(yīng)用于現(xiàn)代光學(xué)、光電子學(xué)、光學(xué)工程以及其他相關(guān)的科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域［1］。 它不僅能改善系統(tǒng)性能( 如減反 濾波) ， 而且是滿足設(shè)計(jì)目標(biāo)的必要手段 光學(xué)薄膜可分光透射， 分光反射， 分光吸收以及改變光的偏振狀態(tài)或相位， 用作各種反射膜， 增透膜和干涉濾光片， 它們賦予光學(xué)元件各種使用性能， 對(duì)光學(xué)儀器的質(zhì)量起著重要或決定性的作用［2］�？茖W(xué)家曾經(jīng)預(yù)言， 21 世紀(jì)是光子世紀(jì) 21 世紀(jì)初光電子技術(shù)迅速發(fā)展， 光學(xué)薄膜器件的應(yīng)用向著性能要求和技術(shù)難度更高 應(yīng)用范圍和知識(shí)領(lǐng)域更廣 器件種類和需求數(shù)量更多的方向迅猛發(fā)展，光學(xué)薄膜技術(shù)的發(fā)展對(duì)促進(jìn)和推動(dòng)科學(xué)技術(shù)現(xiàn)代化和儀器微型化起著十分重要的作用， 光學(xué)薄膜在各個(gè)新興科學(xué)技術(shù)中都得到了廣泛的應(yīng)用［3］。

1.1 物理氣相學(xué)沉積( PVD)

物理氣相沉積是光學(xué)薄膜制備的主流技術(shù)， 物理氣相沉積法， 簡(jiǎn)單地說是在真空環(huán)境中加熱薄膜材料使其成為蒸汽， 蒸汽再凝結(jié)到溫度相對(duì)低的基片上形成薄膜。PVC 需要使用真空鍍膜機(jī)， 制造成本高， 膜層厚度可以精確控制， 膜層強(qiáng)度好。PVD 制備光學(xué)薄膜這一技術(shù)目前已被廣泛采用， 從而使各種光學(xué)薄膜在各個(gè)領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。在 PVD 方法中， 根據(jù)膜料汽化方式的不同， 又分為熱蒸發(fā)、 濺射、離子鍍及離子輔助鍍技術(shù)。其中， 光學(xué)薄膜主要采用熱蒸發(fā)及離子輔助鍍技術(shù)， 濺射及離子鍍技術(shù)用于光學(xué)薄膜制備是近幾年發(fā)展起來的［5］。

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