在LensMechanix中加載、分析并驗(yàn)證一個(gè)簡單的透鏡系統(tǒng)
通過本教程,你將學(xué)會如何使用LensMechanix加載、分析并驗(yàn)證一個(gè)簡單的透鏡系統(tǒng)。本教程使用的示例文件為OpticStudio序列模式文件,當(dāng)使用LensMechanix打開時(shí),將會被轉(zhuǎn)為非序列模式文件。
15.選擇最外面距離顏色探測器最遠(yuǎn)的透鏡。 16.在 Display 下,勾選 Flux,選擇藍(lán)至紅色條,將 Resolution 選為 high,然后點(diǎn)擊綠色打勾符號。 圖十五. Surface Power 面板,具有顯示輻照度功能 驗(yàn)證完整光機(jī)系統(tǒng)的性能 1.在 Command Manager 中,點(diǎn)擊 Run Ray Trace。 2.在 Run Ray Trace PMP 中,選擇 Baseline ray trace 以及 Full ray trace,之后點(diǎn)擊 Run。 注意: Baseline ray trace 僅考慮Computational Domain 中的光學(xué)元件,F(xiàn)ull ray trace 會同時(shí)考慮 Computational Domain 中的光學(xué)以及機(jī)械元件。 3.當(dāng)光線追跡完成時(shí),點(diǎn)擊綠色打勾符號。 4.在 Command Manager 中,點(diǎn)擊 Display OPS。 Beam clipping 以及 Image contamination 選項(xiàng)卡的狀態(tài)標(biāo)識顯示為紅色。 5.選擇 Image Contamination 選項(xiàng)卡。 Image contamination 下的 LensMechanix Output 單元變?yōu)榧t色,這表明目前性能與最初設(shè)計(jì)的光學(xué)性能相比的偏離值,大于設(shè)定的可接受范圍。 6.為了更清晰的觀察光線如何穿過系統(tǒng),點(diǎn)擊 Display Contaminating Rays。 7.在繪圖區(qū)點(diǎn)擊 Section View。 8.在 Plane 1 區(qū)域中,選擇 Right Plane 并點(diǎn)擊綠色打勾符號。 9.在 Optics Manager 的 Output Tree 下,右鍵點(diǎn)擊由于光學(xué)追跡自動生成的光線組。 注意:導(dǎo)致像面污染的光線按照任意路線傳播,并打到探測器上。 圖十六以及圖十七展示了表面屈光度分析的結(jié)果。可以看到,部分光線受鏡筒影響偏折;诖,我們需要縮短鏡筒。 圖十六. 光機(jī)裝配體的 Section 視圖 |
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