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  • 如何理解OpticStudio中的切趾

    作者:Zemax China 來(lái)源:投稿 時(shí)間:2018-08-22 17:59 閱讀:15364 [投稿]
    這篇文章介紹了當(dāng)光源入射到系統(tǒng)入瞳時(shí),“切趾(Apodization)”是如何對(duì)光源輻照度分布進(jìn)行定義的。

    正如切趾的字面意思一樣,我們通過(guò)設(shè)置切趾類型和切趾因子去掉了光強(qiáng)分布的“腳部”,也就是衍射圖案的邊緣外環(huán)部分。需要注意的是,此時(shí)的透鏡組并沒(méi)有發(fā)生改變,只是將強(qiáng)度分布由均勻分布改變?yōu)橐怨馔霃綖樽宰兞康暮瘮?shù)。在本例中,孔徑邊緣只有少部分能量,因此只有少部分能量從中心衍射到外部。

    切趾一詞也同樣用于空間濾波器中。例如使用小孔光闌,將艾里斑周圍的衍射環(huán)濾除,使光斑中心部分通過(guò)小孔。以此來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)光斑的“去腳化”。但是在光學(xué)設(shè)計(jì)的術(shù)語(yǔ)中,切趾的應(yīng)用范圍更加廣泛,它用來(lái)描述光瞳上任意的輻照度分布函數(shù),無(wú)論系統(tǒng)的衍射光斑是否只有一個(gè)主峰。

    切趾類型

    OpticStudio支持多種切趾類型:

    均勻 (Uniform):在該類型下,光線在整個(gè)入瞳上是均勻分布來(lái)模擬均勻照明的情況。系統(tǒng)中物體處于較遠(yuǎn)距離時(shí)一般屬于這類情況。

    高斯 (Gaussian):光的振幅隨光瞳的半徑變化而變化,并其其強(qiáng)度呈高斯型分布。并且,切趾因子用來(lái)描述振幅隨光瞳半徑增大而減小的程度。振幅和光瞳半徑的關(guān)系為:


    其中A為振幅,ρ為歸一化光瞳半徑,G為切趾因子。當(dāng)G為0時(shí),振幅在整個(gè)光瞳上為均勻分布。當(dāng)G為1時(shí),光束的振幅在光瞳邊緣處下降為1/e,也就是說(shuō)光強(qiáng)下降到1/e2,約為峰值光強(qiáng)的13.5%。

    余弦立方 (Cosine Cubed):該類型模擬點(diǎn)光源照明一個(gè)平面時(shí)的光強(qiáng)分布情況。當(dāng)該平面為入瞳時(shí),請(qǐng)您確保只有在點(diǎn)光源或視場(chǎng)點(diǎn)靠近光軸的情況下使用這一切趾類型。我們使用“余弦立方”這一詞是因?yàn)閷?duì)于一個(gè)點(diǎn)光源來(lái)說(shuō),光束照明的平面上光強(qiáng)和角度的關(guān)系為:


    其中θ為Z軸與入射到入瞳上的光線間的夾角,在光瞳中心處的相對(duì)光強(qiáng)為1。

    OpticStudio還支持在任意面上用戶自定義切趾函數(shù),而不只是在入瞳上定義。有關(guān)用戶自定義表面切趾DLL的詳細(xì)信息,您可以在幫助系統(tǒng)中的 “The Setup Tab > Editors Group (Setup Tab) > Lens Data Editor > Sequential Surfaces (lens data editor) > User Defined” 中查看詳細(xì)信息。

    您可以使用透過(guò)率在任意表面定義切趾。在DLL中,透過(guò)率函數(shù)可以是基于光線坐標(biāo)、方向余弦、表面參數(shù)或其他數(shù)據(jù)的任意公式,或通過(guò)表中數(shù)據(jù)以及其他DLL中可使用的方法來(lái)定義。

    參考資料

    1、Zemax OpticStudio 18.4 User Manual

    2、維基百科,Apodization詞條:https://en.wikipedia.org/wiki/Apodization

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    bmw0501:不錯(cuò),翻譯的很好(2018-08-23)