其中Ex, Ey, Ez均為復(fù)值。電場(chǎng)向量E必須垂直于光線傳播的方向向量。在兩種介質(zhì)的邊界處，透過(guò)率、反射率和電場(chǎng)的相位在P分量和S分量上各不相同。電場(chǎng)的S分量為E在與入射平面垂直的光軸方向上的分量，P分量為E在入射平面上的分量。入射平面包含光線傳播向量和表面在入射點(diǎn)處的法向量。需要注意的是：光線在垂直表面入射時(shí)，該定義方式會(huì)變得模糊。

因此我們可以看出，P和S偏振態(tài)的定義與表面相關(guān)。如果在表面上添加了鍍膜，則光線透過(guò)的比例會(huì)根據(jù)系統(tǒng)設(shè)置中偏振的參考方式不同而顯著變化。

舉例來(lái)說(shuō)，有限距離內(nèi)的物點(diǎn)發(fā)出的光穿過(guò)一個(gè)鍍膜的平面，該平面鍍膜只允許P光通過(guò)。該物點(diǎn)發(fā)出的光線具有初始偏振態(tài)Jx=0，Jy=1。當(dāng)參考軸在X或Y軸中變化時(shí)，P光和S光的透過(guò)率發(fā)生顯著變化。這是因?yàn)檩斎氲钠�振態(tài)Jx和Jy在表面上分別平行于全局X軸和全局Y軸。

然而當(dāng)參考于Z軸時(shí)，Jx和Jy跟隨全局Z軸旋轉(zhuǎn)變化，因此偏振態(tài)沒(méi)有改變。

因此，在使用鍍膜改變光的偏振時(shí)，您需要注意輸入光參考軸的定義方式。

如您想進(jìn)行驗(yàn)證，您可以使用Ideal2或表格鍍膜(Table Coating)格式文件，對(duì)P光和S光自定義透過(guò)率的實(shí)部和虛部。這些格式的鍍膜數(shù)據(jù)可以非常有效的模擬理想偏振器。此外，您還可以使用優(yōu)化操作數(shù)CODA針對(duì)特定偏振數(shù)據(jù)對(duì)鍍膜進(jìn)行優(yōu)化。

雙折射輸入/輸出

在OpticStudio中模擬雙折射材料的方法于瓊斯矩陣和表面鍍膜不同。如果想要在序列模式下定義雙折射元件，您必須在透鏡數(shù)據(jù)編輯器中定義兩個(gè)表面，即雙折射輸入表面和雙折射輸出表面。在這兩個(gè)表面定義的邊界之內(nèi)，OpticStudio會(huì)使用兩種材料，一種以雙折射材料的尋常折射率來(lái)定義，另一種以非尋常折射率定義。OpticStudio會(huì)使用雙折射輸入面型中定義的材料折射率來(lái)定義尋常折射率。隨后OpticStudio會(huì)在材料名后添加“-E”并在當(dāng)前加載的材料庫(kù)中尋找該材料，其折射率會(huì)用于定義非尋常折射率。

相比瓊斯矩陣，該種方法允許用戶計(jì)算菲涅爾系數(shù)和材料吸收以得到更加精確的透過(guò)率結(jié)果。用戶可以選擇單獨(dú)追跡尋常光和非尋常光或只追跡其中一種并考慮另一種對(duì)相位的影響。該計(jì)算類型是通過(guò)雙折射輸入/輸出中的模式 (Mode Flag) 參數(shù)來(lái)控制。更多信息請(qǐng)參考知識(shí)庫(kù)文章“What is The Birefringent Mode Flag For?”

https://customers.zemax.com/os/resources/learn/knowledgebase/what-is-the-birefringent-mode-flag-for