近日，ASML 公司宣布將會(huì)自今年開始，提供透射率超過 90% 薄片的極紫外（EUV）系統(tǒng)。ASML 韓國市場經(jīng)理 MyoungKuy Lee 在 SMC 韓國研討會(huì)上說，該公司將開始生產(chǎn)透射率超過 90.6% 的薄片。

Lee 表示通過和 Teradyne 公司的共同合作，這些薄片已經(jīng)確保了 400 瓦的功率耐久性。這家位于荷蘭的工廠設(shè)備制造商在 2016 年首次開發(fā)了多晶硅 EUV 薄膜。當(dāng)時(shí)，它的透光率為78%。它在 2018 年開發(fā)出的透光率約為 80%，另一種在 2020 年超過 85%。

EUV 系統(tǒng)的光線從鏡子中反射到晶圓上，與以前使用氟化氬激光器從頂部射入晶圓的系統(tǒng)不同。這就要求用于 EUV 系統(tǒng)的薄膜更加透明，以確保光線通過它們到達(dá)晶圓時(shí)不會(huì)被削弱。三星和臺(tái)積電此前曾表示，他們需要透光率超過 90% 的薄片才能考慮使用這些薄片。

這些公司已經(jīng)使用了沒有薄膜的EUV系統(tǒng)，盡管由于透射率不理想而有灰塵沉淀的風(fēng)險(xiǎn)。ASML的顆粒將由日本的三井化學(xué)公司制造。兩家公司早在2019年就簽署了關(guān)于EUV膠粒的合作協(xié)議。