上海光機(jī)所在DKDP晶體激光預(yù)處理技術(shù)研究取得新進(jìn)展
提出了基于脈沖時(shí)間波形優(yōu)化激光預(yù)處理效果的方案,利用具有不同上升沿和下降沿組合的亞納秒激光脈沖開(kāi)展激光預(yù)處理工藝研究。
日前,中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所薄膜光學(xué)實(shí)驗(yàn)室研究團(tuán)隊(duì)在DKDP晶體亞納秒激光預(yù)處理優(yōu)化方面取得新進(jìn)展。相關(guān)成果發(fā)表在Optics Express, Vol. 29, No. 22, 35993-36004]。 DKDP(KDxH(2-x)PO4)晶體為唯一應(yīng)用于ICF(Inertial Confinement Fusion)工程中的非線性光學(xué)晶體材料,但是其損傷問(wèn)題嚴(yán)重制約了元件的使用壽命及激光的輸出。激光預(yù)處理技術(shù)為能夠有效提升DKDP晶體抗激光損傷性能的方法之一。近年來(lái)國(guó)內(nèi)外研究發(fā)現(xiàn)預(yù)處理激光的脈寬(特別是在亞納秒量級(jí))對(duì)其預(yù)處理效果的提升影響較大,通過(guò)優(yōu)化亞納秒激光參數(shù)將能夠使DKDP晶體獲得更高的抗激光損傷性能。 研究團(tuán)隊(duì)創(chuàng)新提出了基于脈沖時(shí)間波形優(yōu)化激光預(yù)處理效果的方案,利用具有不同上升沿和下降沿組合的亞納秒激光脈沖開(kāi)展激光預(yù)處理工藝研究。研究結(jié)果表明,脈沖上升前沿的快慢對(duì)DKDP晶體預(yù)處理效果具有明顯影響,具有慢上升脈沖前沿的亞納秒激光對(duì)DKDP晶體的預(yù)處理效果比高斯型亞納秒激光的處理效果提升了20%;并且損傷形貌也發(fā)生了明顯變化,表現(xiàn)為局部微小裂紋,這表明具有慢上升脈沖前沿的亞納秒激光預(yù)處理能夠?qū)KDP晶體中的損傷前驅(qū)體進(jìn)行更徹底的熱改性,更好的提升晶體的抗激光損傷性能。 圖1.不同時(shí)間波形亞納秒激光預(yù)處理后DKDP晶體的R-on-1激光誘導(dǎo)損傷閾值 圖2.不同時(shí)間波形亞納秒激光預(yù)處理后,DKDP晶體的納秒激光誘導(dǎo)損傷形貌(誘導(dǎo)激光參數(shù)為3ω,8ns,23J/cm2) 此研究能夠?yàn)镈KDP晶體以及其他非線性光學(xué)晶體的抗激光損傷性能的提升提供重要思路及參考。 相關(guān)工作得到了國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃、國(guó)家自然科學(xué)基金、中科院戰(zhàn)略性先導(dǎo)科技專項(xiàng)和中科院特別研究助理項(xiàng)目的支持。 原文鏈接:https://doi.org/10.1364/OE.441918 |
1.行業(yè)新聞、市場(chǎng)分析。 2.新品新技術(shù)(最新研發(fā)出來(lái)的產(chǎn)品技術(shù)介紹,包括產(chǎn)品性能參數(shù)、作用、應(yīng)用領(lǐng)域及圖片); 3.解決方案/專業(yè)論文(針對(duì)問(wèn)題及需求,提出一個(gè)解決問(wèn)題的執(zhí)行方案); 4.技術(shù)文章、白皮書(shū),光學(xué)軟件運(yùn)用技術(shù)(光電行業(yè)內(nèi)技術(shù)文檔);
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