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  • 上海光機所在MoSSe的非線性吸收和集成光子學應用方面取得進展

    作者:佚名 來源:上海光機所 時間:2022-12-14 15:58 閱讀:342 [投稿]
    研究人員使用開孔Z掃描技術研究了MoSSe納米片在1040/520nm的380fs脈沖激光和1064/532nm的6-ns脈沖激光下的飽和吸收響應的波長和脈沖持續(xù)時間依賴性,隨后使用快速和慢速飽和模型計算了基態(tài)與激發(fā)態(tài)吸收截面。

    近期,上海光機所光芯片集成研發(fā)中心研究團隊在MoSSe的非線性吸收和集成光子學應用方面取得進展。相關成果以“Nonlinear absorption and integrated photonics applications of MoSSe”為題發(fā)表于Optics Express。

    MoSSe是一種三元TMD合金,其結構與MoS2相似,在S層和Se層之間夾有Mo層。MoSSe具有新的物理性質,如更高的晶格熱導率、更大的載流子遷移率和增強的壓電效應,這是由于MoS2結構的對稱性被打破和平面外偶極子的存在。

    研究人員使用開孔Z掃描技術研究了MoSSe納米片在1040/520nm的380fs脈沖激光和1064/532nm的6-ns脈沖激光下的飽和吸收響應的波長和脈沖持續(xù)時間依賴性,隨后使用快速和慢速飽和模型計算了基態(tài)與激發(fā)態(tài)吸收截面。結果表明,MoSSe在可見光范圍內的非線性光學響應優(yōu)于近紅外范圍,并且在6ns脈沖下的非線性光學響應優(yōu)于380fs脈沖。此外,研究人員將MoSSe與集成光子系統(tǒng)相結合,設計并優(yōu)化了工作在1550nm波長的縫隙波導調制器,并發(fā)現Re(neff)可以改變1.04×10-3并且損耗沒有顯著變化,表明它是具有較好性能的相位調制器。


    圖1.MoSSe色散的非線性傳輸取決于入射光強度,通過ns激光下的快速SA模型(a,b)和fs激光下的慢速SA模型(c,d)擬合。

    該工作得到了國家自然科學基金、中科院先導B等項目的支持。

    原文鏈接:https://doi.org/10.1364/OE.465566

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