2.分析實(shí)例

折反射系統(tǒng)應(yīng)用很廣，用圖1所示的長(zhǎng)焦卡塞格林折、反射照相物鏡作為分析實(shí)例，在這個(gè)系統(tǒng)中可能會(huì)有漏光，也就是光未經(jīng)主次鏡直接進(jìn)入系統(tǒng)并到達(dá)像面，同時(shí)由于有折射透鏡，也存在透射面殘余反射雜散光。

2.1漏光分析

對(duì)所分析的長(zhǎng)焦卡塞格林系統(tǒng)加遮光罩，但沒(méi)有做其他防漏光光闌處理，分析可得系統(tǒng)漏光的情況，如圖3所示。

圖3沒(méi)有防漏光時(shí)的系統(tǒng)漏光和像面漏光情況

對(duì)這個(gè)系統(tǒng)主次鏡加上如圖4所示的防漏光遮光筒后，漏光的情況大大減輕，如圖5所示。

......

3 結(jié)論

以上分析表明，近軸分析給出了影響最嚴(yán)重的鬼像及其產(chǎn)生的原因，從而可以通過(guò)修改有關(guān)參數(shù)或鍍膜等方法加以處理。實(shí)際光線(xiàn)分析可以得到像面上雜散光的能量分布和相對(duì)照度情況，提供了很直觀的結(jié)果。通過(guò)對(duì)漏光的分析可以指導(dǎo)設(shè)計(jì)者改進(jìn)遮光筒，以保證在最小攔光的情況下消除漏光。結(jié)果表明，現(xiàn)代光學(xué)系統(tǒng)雜散光分析是十分必要的，否則可能對(duì)成像造成比較嚴(yán)重的影響。在一些強(qiáng)激光光學(xué)系統(tǒng)中更是需要對(duì)整個(gè)系統(tǒng)的雜散光和鬼像做全面的分析，因?yàn)槿绻�有鬼像點(diǎn)出現(xiàn)在光學(xué)元件表面附近，強(qiáng)大的能量有可能損毀元器件，造成系統(tǒng)損傷。文中在分析漏光雜散光和光學(xué)透射面殘余反射雜散光時(shí)，都使用了自行開(kāi)發(fā)的雜散光分析專(zhuān)用軟件。本軟件還可以分析紅外光學(xué)系統(tǒng)自身熱輻射的影響，已經(jīng)在其他文章中介紹過(guò)。

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