開發(fā)新涂層工藝

首先，研究人員必須開發(fā)一種新的涂層工藝。他們將傳統(tǒng)的薄膜涂層技術(shù)與新型半導(dǎo)體材料和方法相結(jié)合。這使得克服困難的中紅外區(qū)域中的材料限制成為可能。維也納大學(xué)CDL Mid-IR負責(zé)人Oliver H.Heckl表示：“這一突破顯示了創(chuàng)新基礎(chǔ)研究和面向需求的產(chǎn)品開發(fā)之間成功合作的巨大潛力�！�

Thorlabs結(jié)晶解決方案公司（TCS）的技術(shù)經(jīng)理Garrett Cole解釋道：“這項工作建立在我們在基材轉(zhuǎn)移結(jié)晶涂層方面的開創(chuàng)性工作之上�！�

然而，制造業(yè)只是挑戰(zhàn)的一部分�？茖W(xué)家們還必須精確測量鏡子，以毫無疑問地證明它們的性能。這是兩位第一作者的主要任務(wù)，TCS的Gar Wing Truong和維也納大學(xué)的Lukas Perner，他們說：“作為這種新型涂層的共同發(fā)明者，能夠讓這些鏡子經(jīng)受住考驗，從而證實它們的卓越性能，真是令人興奮。”

這些新型超反射鏡的一個直接應(yīng)用是顯著提高中紅外氣體分析光學(xué)設(shè)備的靈敏度。這些設(shè)備可以檢測并準確量化微量重要的環(huán)境標志物，如一氧化碳。

為了證明這些可能性，該團隊請來了美國國家標準與技術(shù)研究所（NIST）的專家。他們證實了超靈敏光譜在中紅外光譜范圍內(nèi)的決定性優(yōu)勢，包括對核取證和碳年代測定很重要的放射性同位素的測量。

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