雙模擬器

數(shù)字光刻模擬器由兩個獨立的組件組成：一個光學模型，用于捕捉光如何投射到器件表面，以及一個抗蝕劑模型，用于顯示光化學反應如何發(fā)生以在表面上產生特征。

在下游任務中，他們將這個學習過的光刻模擬器連接到基于物理的模擬器上，該模擬器可以預測所制造的設備將如何執(zhí)行該任務，例如衍射透鏡將如何衍射照射它的光線。

用戶指定他們希望設備實現(xiàn)的結果。然后，這兩個模擬器在更大的框架內協(xié)同工作，向用戶展示如何進行設計以達到這些性能目標。

Cheng Zheng補充道：“有了我們的模擬器，制造的物體可以在下游任務中獲得盡可能好的性能，比如計算相機，這是一種很有前途的技術，可以使未來的相機小型化和更強大。我們表明，即使你使用后校準來嘗試獲得更好的結果，它仍然不如我們的光刻模型處于循環(huán)中�！�

他們通過制造一個全息元件來測試這種技術，當光線照射到該元件上時，該元件會產生蝴蝶圖像。與使用其他技術設計的設備相比，他們的全息元件產生了一個近乎完美的蝴蝶，與設計更接近。他們還制作了一個多級衍射透鏡，其圖像質量優(yōu)于其他設備。

未來，研究人員希望改進他們的算法，以模擬更復雜的設備，并使用消費級相機測試該系統(tǒng)。此外，他們希望擴展他們的方法，使其可以與不同類型的光刻系統(tǒng)一起使用，例如使用深紫外光或極紫外光的系統(tǒng)。

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