據(jù)國家知識產(chǎn)權(quán)局公告，中科飛測新獲得一項(xiàng)實(shí)用新型專利授權(quán)，專利名為“光束處理裝置及光學(xué)檢測設(shè)備”，專利申請?zhí)枮镃N202321700573.6，授權(quán)日為2024年2月23日。

專利摘要：本實(shí)用新型涉及光束處理裝置及光學(xué)檢測設(shè)備。光束處理裝置，包括：殼體，殼體具有內(nèi)腔；多個(gè)光學(xué)模塊，光學(xué)模塊包括元件座和光學(xué)元件，元件座固定在殼體上，光學(xué)元件設(shè)于元件座上并位于內(nèi)腔中；至少一個(gè)光學(xué)模塊靠近內(nèi)腔的腔壁布置，靠近腔壁布置的光學(xué)模塊的元件座包括調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)，調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)用于調(diào)節(jié)光學(xué)元件的位置，調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)具有操控部，操控部的至少部分位于殼體外部；以及至少一處吹氣部件，吹氣部件包括吹氣管路，吹氣管路具有進(jìn)氣端和吹氣端，吹氣端固定在靠近腔壁布置的光學(xué)模塊的元件座上，吹氣端用于向光學(xué)元件吹氣，進(jìn)氣端用于連通殼體外部的氣源。本實(shí)用新型主要解決光束處理裝置的光學(xué)元件容易被污染的問題。