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  • 薄膜設(shè)計(jì)與鍍膜工藝

    作者:訊技光電 來(lái)源:投稿 時(shí)間:2024-10-14 10:19 閱讀:310 [投稿]
    第一天主要為光學(xué)薄膜分析軟件Essential Macleod的使用,第二天為各種類(lèi)型的光學(xué)薄膜的設(shè)計(jì)模擬方法,前兩天主講人為訊技光電高級(jí)工程師,第三天特別邀請(qǐng)上海光學(xué)精密機(jī)械研究所專(zhuān)家易葵,分享光學(xué)薄膜制備工藝、激光薄膜關(guān)鍵技術(shù)以及光學(xué)薄膜的測(cè)量方法等相關(guān)內(nèi)容。

    時(shí)間地點(diǎn)

    主辦單位:訊技光電科技(上海)有限公司(微信公眾號(hào):infotek);蘇州黌論教育咨詢(xún)有限公司(微信公眾號(hào):honglun-seminary)

    授課時(shí)間:2024年12月4 (三)-6(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00

    授課地點(diǎn):上海市嘉定區(qū)南翔銀翔路819號(hào)中暨大廈18樓1805室

    課程講師:訊技光電高級(jí)工程師&資深顧問(wèn)

    課程費(fèi)用:4800RMB(課程包含課程材料費(fèi)、開(kāi)票稅金、午餐)

    特邀專(zhuān)家介紹

    易葵:中國(guó)科學(xué)院上海光機(jī)所正高級(jí)工程師,主要從事光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)、制備工藝和測(cè)試相關(guān)方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空間激光薄膜、X射線多層膜、真空鍍膜技術(shù)與薄膜制備工藝研究等方面有較為深入的研究。獲得國(guó)家技術(shù)發(fā)明獎(jiǎng)二等獎(jiǎng)、上海市技術(shù)發(fā)明獎(jiǎng)一等獎(jiǎng)、上海市科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)、軍隊(duì)科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)等獎(jiǎng)項(xiàng),入選2014年度中科院“現(xiàn)有關(guān)鍵技術(shù)人才”。

    課程簡(jiǎn)介

    隨著現(xiàn)代科技的飛速發(fā)展,光學(xué)薄膜的應(yīng)用越來(lái)越廣泛。光學(xué)薄膜的發(fā)展極大地促進(jìn)了現(xiàn)代光學(xué)儀器性能的提高,其種類(lèi)非常廣泛,如增透膜,高反膜,分光膜,濾光片等,光學(xué)薄膜器件如今已經(jīng)廣泛應(yīng)用到光通信技術(shù)、光伏產(chǎn)業(yè)技術(shù)、激光技術(shù)、光刻技術(shù)、航空航天技術(shù)等諸多領(lǐng)域。

    本次課程第一天主要為國(guó)際知名的光學(xué)薄膜分析軟件Essential Macleod的使用,第二天為各種類(lèi)型的光學(xué)薄膜的設(shè)計(jì)模擬方法,前兩天主講人為訊技光電高級(jí)工程師,第三天特別邀請(qǐng)上海光學(xué)精密機(jī)械研究所專(zhuān)家易葵,分享光學(xué)薄膜制備工藝、激光薄膜關(guān)鍵技術(shù)以及光學(xué)薄膜的測(cè)量方法等相關(guān)內(nèi)容。

    課程大綱

    1. Essential Macleod軟件介紹

    1.1 介紹軟件

    1.2 創(chuàng)建一個(gè)簡(jiǎn)單的設(shè)計(jì)

    1.3 繪圖和制表來(lái)表示性能

    1.4 通過(guò)剪貼板和文件導(dǎo)入導(dǎo)出數(shù)據(jù)

    1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)

    1.6 特定設(shè)計(jì)的公式技術(shù)

    1.7 交互式繪圖

    2. 光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)

    2.1 垂直入射時(shí)的界面和薄膜特性計(jì)算

    2.2 后表面對(duì)光學(xué)薄膜特性的影響

    3. 材料管理

    3.1 材料模型

    3.2 介質(zhì)薄膜光學(xué)常數(shù)的提取

    3.3 金屬薄膜光學(xué)常數(shù)的提取

    3.4 基板光學(xué)常數(shù)的提取

    4. 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)優(yōu)化方法

    4.1 參考波長(zhǎng)與g

    4.2 四分之一規(guī)則

    4.3 導(dǎo)納與導(dǎo)納圖

    4.4 斜入射光學(xué)導(dǎo)納

    4.5 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)的進(jìn)展

    4.6 Macleod軟件的設(shè)計(jì)與優(yōu)化功能

    4.6.1 優(yōu)化目標(biāo)設(shè)置

    4.6.2 優(yōu)化方法(單一優(yōu)化,合成優(yōu)化,模擬退火法,共軛梯度法,準(zhǔn)牛頓法,針形優(yōu)化,差分演化法)

    4.6.3 膜層鎖定和鏈接

    5. 光學(xué)薄膜系統(tǒng)設(shè)計(jì)與分析案例與應(yīng)用

    5.1 減反射薄膜

    5.2 分光膜

    5.3 高反射膜

    5.4 干涉截止濾光片

    5.5 窄帶濾光片

    5.6 負(fù)濾光片

    5.7 非均勻膜與Rugate濾光片

    5.8 仿生蛾眼/復(fù)眼結(jié)構(gòu)

    5.9 顏色膜

    5.10 Vstack薄膜設(shè)計(jì)示例

    5.11 Stack應(yīng)用范例說(shuō)明

    6. 薄膜性能分析

    6.1 電場(chǎng)分布

    6.2 公差與靈敏度分析

    6.3 反演工程

    6.4 均勻性,摻雜/孔隙材料仿真

    7. 真空技術(shù)

    7.1 常用真空泵介紹

    7.2 真空密封和檢漏

    8. 薄膜制備技術(shù)

    8.1 常見(jiàn)薄膜制備技術(shù)

    9. 薄膜制備工藝

    9.1 薄膜制備工藝因素

    9.2 薄膜均勻性修正技術(shù)

    9.3 光學(xué)薄膜監(jiān)控技術(shù)

    10. 激光薄膜

    10.1 薄膜的損傷問(wèn)題

    10.2 激光薄膜的制備流程

    10.3 激光薄膜的制備技術(shù)

    11. 光學(xué)薄膜特性測(cè)量

    11.1 薄膜光譜測(cè)量

    11.2 薄膜光學(xué)常數(shù)測(cè)量

    11.3 薄膜應(yīng)力測(cè)量

    11.4 薄膜損傷測(cè)量

    11.5 薄膜形貌、結(jié)構(gòu)與組分分析

    報(bào)名方式

    本次課程針對(duì)所有對(duì)薄膜有興趣的人員,不需要任何光學(xué)軟件基礎(chǔ),如確認(rèn)報(bào)名,請(qǐng)?zhí)顚?xiě)報(bào)名表,并傳真至021-64860709或郵件 course@infotek.com.cn; course@infocrops.com 至訊技/訊稷課程小組

    掃描二維碼在線填寫(xiě)報(bào)名表,工作人員會(huì)在收到報(bào)名信息的第一時(shí)間電話聯(lián)系確認(rèn)相關(guān)信息。

    表單報(bào)名如出現(xiàn)異常,請(qǐng)聯(lián)系工作人員18971148505(微信同號(hào))

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