近日，華中科技大學武漢光電國家研究中心團隊在半導體專用光刻膠領域實現(xiàn)重大突破。團隊研發(fā)的T150A光刻膠系列產(chǎn)品，已通過半導體工藝量產(chǎn)驗證，實現(xiàn)原材料全部國產(chǎn)化，配方全自主設計，有望開創(chuàng)國內(nèi)半導體光刻制造新局面。

半導體專用光刻膠普遍應用于集成電路芯片制造中，電腦、手機、汽車電子、人工智能、光伏、鋰電等都離不開它，產(chǎn)業(yè)應用可謂十分廣泛。武漢光電國家研究中心團隊研發(fā)的這款半導體專用光刻膠對標國際頭部企業(yè)主流KrF光刻膠系列。相較于被業(yè)內(nèi)稱之為“妖膠”的國外同系列某產(chǎn)品，T150A在光刻工藝中表現(xiàn)出的極限分辨率達到120nm，且工藝寬容度更大，穩(wěn)定性更高，留膜率更優(yōu)，其對刻蝕工藝表現(xiàn)更好，通過驗證發(fā)現(xiàn)T150A中密集圖形經(jīng)過刻蝕，下層介質的側壁垂直度表現(xiàn)優(yōu)異。

團隊在電子化學品領域深耕二十余載，立足于關鍵光刻膠底層技術研究，致力于半導體專用高端電子化學品原材料和光刻膠的開發(fā)，并以新技術路線為半導體制造開辟新型先進光刻制造技術，同時為材料的分析與驗證提供最全面的手段。

該團隊負責人表示：“以光刻技術的分子基礎研究和原材料的開發(fā)為起點，最終獲得具有自主知識產(chǎn)權的配方技術。這只是個開始，我們團隊還會發(fā)展一系列應用于不同場景下的KrF與ArF光刻膠，致力于突破國外卡脖子關鍵技術，為國內(nèi)相關產(chǎn)業(yè)帶來更多驚喜�！�