上海光機所在基于納米疊層的寬帶減反射膜方面取得新進(jìn)展
中科院上海光機所高功率激光元件技術(shù)與工程部研究團隊在基于納米疊層的寬帶減反射膜方面取得新進(jìn)展。
 近期，中科院上海光機所高功率激光元件技術(shù)與工程部研究團隊在基于納米疊層的寬帶減反射膜方面取得新進(jìn)展，相關(guān)研究成果以“Plasma-enhanced atomic-layer-deposited HfO2–SiO2 nanolaminates for broadband antireflection coatings”為題發(fā)表于Optical Materials。 納米疊層因具備性能可調(diào)諧能力，給薄膜設(shè)計帶來了極大的靈活性。然而，納米疊層的超薄子層厚度和多界面問題使得基于納米疊層的高光學(xué)性能薄膜研制極具挑戰(zhàn)，尤其是對于膜層厚度和膜層折射率較為敏感的寬帶減反射薄膜。 團隊系統(tǒng)研究了影響基于納米疊層的寬帶減反射膜光學(xué)性能的因素。針對性提出了一種同時考慮納米疊層子層厚度偏差、子層折射率偏差和界面擴散的預(yù)校正策略，并通過等離子體增強原子層沉積技術(shù)進(jìn)行實驗驗證。經(jīng)預(yù)校正策略制備的寬帶減反射薄膜的光譜與理論設(shè)計光譜間的均方根誤差低至0.100，降低了一倍。該研究結(jié)果為對結(jié)構(gòu)敏感的高光性質(zhì)量多層膜研制提供了參考。  圖1.三種典型納米疊層的界面擴散、折射率分布修正及其透射光譜  圖2.經(jīng)預(yù)校正策略制備的寬帶減反射薄膜的光譜與膜層剖面 相關(guān)工作得到了國家自然科學(xué)基金、中國科學(xué)院穩(wěn)定支持基礎(chǔ)研究領(lǐng)域青年團隊計劃、上海市領(lǐng)軍人才項目、上海市科學(xué)技術(shù)委員會科技計劃項目的支持。 相關(guān)鏈接：https://doi.org/10.1016/j.optmat.2024.115282 |
1.行業(yè)新聞、市場分析。 2.新品新技術(shù)（最新研發(fā)出來的產(chǎn)品技術(shù)介紹，包括產(chǎn)品性能參數(shù)、作用、應(yīng)用領(lǐng)域及圖片）； 3.解決方案/專業(yè)論文（針對問題及需求，提出一個解決問題的執(zhí)行方案）； 4.技術(shù)文章、白皮書，光學(xué)軟件運用技術(shù)（光電行業(yè)內(nèi)技術(shù)文檔）；
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