優(yōu)化了一個4P結構:
材料:K26R*3 EP5000*1(795nm-825nm)
_r+9S.z OBJ: 346MM
YL;ZZ2A TTL: 4.05
;^=eiurv FOV: 46°@Y=1.815 EFL=4.2MM
"a?k #!E 畸變:<1%°
pW:U|m1dS F#2.4(要求F#<2.5)
ST'L \yebc BFL: 0.93MM(要求>0.7MM)
D@"q2 ! Paraxial Magnification: -0.01226985
@j9yc 根據(jù)
視場角、像高要求計算得
焦距應為4.45 不過實際優(yōu)化中發(fā)現(xiàn)焦距,視場角及像面高度 總長會有一定誤差,這點感覺奇怪,很難同時滿足要求,不知是不是設計要求問題,看了壇友們的,沒有可以同時滿足這幾者要求的,當前這邊也是把視場角由44°加大46°,才滿足半像高大于等于1.815mm,個人拙見,大家暢聊
Ni"fV]' 由于
系統(tǒng)要求波段范圍較窄,由
論壇找一相近波段初始
結構:
b,#cc>76\ 1.球面初始結構;
)tz8(S 2.將所有球面變?yōu)?span onclick="sendmsg('pw_ajax.php','action=relatetag&tagname=非球面',this.id)" style="cursor:pointer;border-bottom: 1px solid #FA891B;" id="rlt_8">非球面,將曲率及非球面系數(shù),厚度間隔設為變量;
i/y+kL 3.控制總長小于4.05mm,同時控制畸變,進行優(yōu)化,開始焦距基于初始結構在目標焦距范圍,沒有在開始控制;
6K[s),rdv 4.調(diào)整控制像面高度(大于1.815mm);
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