清華大學(xué)精密儀器系尤政課題組、材料學(xué)院劉鍇課題組、物理系魏洋課題組，與美國(guó)伯克利加州大學(xué)吳軍橋課題組、姚杰課題組、科斯塔斯·格里戈羅普洛斯（Costas P. Grigoropoulos）課題組合作，在材料學(xué)國(guó)際知名期刊《先進(jìn)材料》（Advanced Materials）上發(fā)表題為《非光刻和現(xiàn)場(chǎng)編程的光子超畫(huà)布》（A Lithography-Free and Field-Programmable Photonic Metacanvas）的研究論文，提出了一種新型的可重構(gòu)光學(xué)平臺(tái)——超畫(huà)布。該論文被《先進(jìn)材料》雜志選為該期的內(nèi)封底（Inside Back Cover）文章。 Sf*VkH  
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傳統(tǒng)光學(xué)器件的技術(shù)參數(shù)與功能是固定的，這給光學(xué)器件與光學(xué)系統(tǒng)的實(shí)際應(yīng)用帶來(lái)了諸多不便。如果能夠在現(xiàn)場(chǎng)調(diào)節(jié)光學(xué)器件的技術(shù)參數(shù)或功能，就可以大幅提升光學(xué)系統(tǒng)的工作性能。因此，可重構(gòu)光學(xué)器件成為了近年來(lái)光學(xué)領(lǐng)域的研究焦點(diǎn)。 #j;