用像差逐項(xiàng)優(yōu)化法裝調(diào)離軸三反射鏡光學(xué)系統(tǒng)     (sJ{27b_  
    在對(duì)復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)粗裝調(diào)完成之后,利用自準(zhǔn)干涉檢驗(yàn)的辦法,采集光學(xué)系統(tǒng)各視場(chǎng)的干涉圖,然后用干涉條紋分析軟件算出整個(gè)系統(tǒng)波前誤差,其量值用澤尼克系數(shù)來表示,通過澤尼克系數(shù)與系統(tǒng)的波像差的關(guān)系,判斷要調(diào)整的目標(biāo)值,即當(dāng)前在光學(xué)系統(tǒng)中占主導(dǎo)地位的波前誤差,對(duì)主導(dǎo)誤差優(yōu)化,得到系統(tǒng)的失調(diào)量,由光學(xué)設(shè)計(jì)軟件確定其正確后,進(jìn)行一次精密裝調(diào).然后進(jìn)行多次這樣的計(jì)算機(jī)迭代和優(yōu)化,直到光學(xué)系統(tǒng)達(dá)到最好的調(diào)整狀態(tài).運(yùn)用此方法來裝調(diào)大口徑,長焦距離軸三反射鏡系統(tǒng),在波長λ等于632.8 nm時(shí),該離軸三反射鏡系統(tǒng)中心視場(chǎng)波像差均方根值達(dá)到了0.094λ,+1°視場(chǎng)和-1°視場(chǎng)的均方根值分別為0.106λ和0.125λ. Yq`r>g  
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偏心孔闌離軸照明EUVL微縮投影物鏡的設(shè)計(jì)及模擬裝調(diào) Ez<J+#)t  
    針對(duì)極紫外投影光刻(Extreme Ultraviolet Lithography,簡稱EUVL)工作波長短的特點(diǎn)及由此帶來的一些問題,對(duì)EUVL微縮投影物鏡的結(jié)構(gòu)參數(shù)進(jìn)行分析選擇,設(shè)計(jì)了離軸照明方式的Schwarzschild微縮投影成像物鏡.利用基于奇異值分解的牛頓迭代法對(duì)敏感矩陣進(jìn)行分解,求出相應(yīng)失調(diào)量的大小,以實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的精密裝調(diào). r^