在光學(xué)設(shè)計(jì)中，適當(dāng)?shù)乜紤]不良反應(yīng)是很重要的。例如，可能發(fā)生在每一個(gè)光學(xué)裝置非鍍膜表面上的多次反射所引發(fā)的鬼像效應(yīng)，而且其對系統(tǒng)性能的影響也應(yīng)該被檢測。最近發(fā)布的非時(shí)序擴(kuò)展，VirtualLab可用于方便地分析影響，正如前面提到的鬼像。通過靈活的配置每個(gè)表面的通道，以及其他數(shù)值參數(shù)，可以調(diào)整手中系統(tǒng)的模擬，以便分析不同的情況和改變準(zhǔn)確度。 H&p:  
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