193nm投影光刻是未來5~10年大規(guī)模集成電路工業(yè)化生產(chǎn)的主要方法. 投影物鏡作為光刻機的核心分系統(tǒng),其光機系統(tǒng)關鍵技術的研究進展直接影響物鏡整體性能的提升. 本文分析了當前集成電路裝備制造業(yè)對193nm投影物鏡的需求,闡述了曝光系統(tǒng)設計、光學元件被動支撐、位姿調(diào)節(jié)、主動變形、元件更換和系統(tǒng)數(shù)值孔徑調(diào)節(jié)等物鏡光機系統(tǒng)關鍵技術研究現(xiàn)狀,提煉了阻礙物鏡未來發(fā)展的關鍵科學技術問題. 目前,193nm光刻物鏡尚需進一步闡明高階熱像差的產(chǎn)生機理和校正策略,解決多自由度位姿標定問題,形成完備的物鏡研制方法,指導高成像質(zhì)量物鏡的制造。 8|+@A1)&4
