摘要：多層膜極紫外光刻掩模"白板"缺陷是制約下一代光刻技術(shù)發(fā)展的瓶頸之一，為提高對(duì)掩模"白板"上的膜層微結(jié)構(gòu)缺陷的分辨能力，提出了一種微分干涉差共焦顯微探測(cè)系統(tǒng)方案�；跇�(biāo)量衍射理論，計(jì)算了系統(tǒng)橫向和軸向分辨率。利用MATLAB建模仿真，在數(shù)值孔徑為0.65、工作波長(zhǎng)為405nm時(shí)，分析比較了微分干涉差共焦顯微系統(tǒng)、傳統(tǒng)顯微系統(tǒng)和共焦顯微系統(tǒng)的分辨率。結(jié)果表明微分干涉差共焦顯微系統(tǒng)具有230 nm的橫向分辨率和25 nm軸向臺(tái)階高度差的分辨能力（對(duì)應(yīng)劃痕等缺陷形式）。此外，仿真和分析了實(shí)際應(yīng)用中探測(cè)器尺寸、樣品軸向偏移等的影響，模擬分析了膜層微結(jié)構(gòu)缺陷的探測(cè)，結(jié)果表明本系統(tǒng)可以探測(cè)200nm寬、10nm高的微結(jié)構(gòu)缺陷，較另外兩種系統(tǒng)有更好的探測(cè)能力。
