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    [分享]光學(xué)冷加工工藝學(xué)資料 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2006-12-21
    1.   拋光粉 9["yL{IPe  
    1.1 對拋光粉的要求 {])F%Q_#cD  
    a.   顆粒度應(yīng)均勻,硬度一般應(yīng)比被拋光材料稍硬; oe# :EfT  
    b.   拋光粉應(yīng)純潔,不含有可能引起劃痕的雜質(zhì); OANn!nZ.  
    c.   應(yīng)具有一定的晶格形態(tài)和缺陷,并有適當(dāng)?shù)淖凿J性; K>"M# T  
    d.   應(yīng)具有良好的分散性和吸附性; 6(VCQ{  
    e.   化學(xué)穩(wěn)定性好,不致腐蝕工件。 @?f3(G h,  
    1.2 拋光粉的種類和性能 ?&j[Rj0pH  
    常用的拋光粉有氧化鈰(CeO2)和氧化鐵(FeO3)。 +3!um