光學零件的加工基本包括切割成型、研磨、拋光三道工序；最終的光學表面質量由拋光決定，因此拋光是最重要的工序。通常高質量光滑表面的拋光是以瀝青或纖維等彈性材料作磨盤，配以拋光液或研磨膏來達到技術要求。 kZ[mM'u#
~?:Xi_3Lo t!jwY/T
wbbr8WiU 近年來，光學及微電子學極大地推動了光學加工技術的發(fā)展。大規(guī)�；虺笠�(guī)模集成電路對所用基片(通常為硅、鍺等材料)的表面精度提出了很高的要求；短波段光學的發(fā)展尤其是強激光技術的出現(xiàn)，對光學元件表面粗糙度的要求極為苛刻。表面粗糙度低于1nm rms的超光滑表面加工技術已成為光學及微電子學基礎技術領域的重要課題。*傳統(tǒng)的經驗依賴性的光學加工方法是不能滿足日益發(fā)展的光學、電子學要求的。國內外已有許多科學家在探索加工高精度超光滑表面的各種技術。一般原子直徑小于0.3nm，而超光滑表面微觀起伏的均方根值為幾個原子的尺寸，因此實現(xiàn)超光滑表面加工的關鍵在于實現(xiàn)表面材料原子量級的去除。 >&hX&,hG
otJHcGv w3bIb$12
ZnRE:= %P`|kPW1 本部分設定了隱藏，您已回復過了，以下是隱藏的內容
~uw
