摘要：深紫外光刻是目前集成電路制造的主流方法，為實(shí)現(xiàn)更小的元件特征尺寸，必須采用浸沒(méi)式投影物鏡以提高光學(xué)系統(tǒng)的分辨率，由此向其中的薄膜光學(xué)元件提出了眾多苛刻的要求。本文的討論由此展開(kāi)：介紹了適用于浸沒(méi)式光刻系統(tǒng)的薄膜材料及膜系設(shè)計(jì)，以及高NA光學(xué)系統(tǒng)所需的大角度保偏膜系；物鏡中最關(guān)鍵的元件為浸液元件，對(duì)浸液薄膜的液體環(huán)境適應(yīng)性及疏水、防污染等關(guān)鍵問(wèn)題進(jìn)行了討論；激光輻照壽命是衡量浸沒(méi)式光刻系統(tǒng)性能的重要因素，對(duì)鍍膜元件的激光輻照性能，尤其是浸液環(huán)境下的元件輻照壽命進(jìn)行了分析。 N1!|nS3w
關(guān)鍵詞 ： 浸沒(méi)式光刻, 光學(xué)薄膜, 膜系設(shè)計(jì), 環(huán)境適應(yīng)性, 激光輻照壽命
