ouyuu:[表情]……其實大部分問題都出自副廠配件和維護的不當(dāng)。 {M5[gr%  
很多時候解決問題就是踩坑，填坑的過程。
最好的辦法就是具體情況具體分析， !H5r+%Oo|  
....... (2021-02-19 23:54)  3+%c*}KC~  

j>5D4}*]f  
，好像是這樣的哦，有時候我也是

有關(guān)像差計算的

有濺射鍍膜原理的資料嗎

yuyujcd:有濺射鍍膜原理的資料嗎 (2021-08-25 17:17)  FK MuRy|  

]j.??'+rg  
暫時沒有。

有沒有適合新手的zemax學(xué)習(xí)資料

期待中....

磁控濺射鍍膜資料

光學(xué)小菜雞:磁控濺射鍍膜資料 (2021-10-15 21:12)  ;L.@4b[lP  

ye1kI~LO(  
磁控濺射的資料真沒有。 U@v=q9'W  
這東西就是個大號離子源，用離子源轟擊靶材，然后靶材濺出到基板表面堆積成薄膜。 x0wy3+GZc  
gio'_X  
有兩種磁控濺射，一種是直接濺射成薄膜，一種是先濺射單質(zhì)，然后氧化或者氮化形成薄膜。 cF_hU"  
-fu=RR  
磁控濺射比蒸發(fā)鍍膜，一個是轟擊用的“子彈”不一樣，氬的重量是電子的幾個數(shù)量級， }?xu/C  
所以轟擊出來的顆粒初速度要比蒸發(fā)出來的高非常多，堆積的致密性也要高很多。 zm rQ7(y  
所以磁控濺射可以不考慮方向性（基板豎著橫著都可以），不用加熱，鍍膜速率高。 q:.URl  
Hk%m`|Z  
但是磁控濺射的控制很麻煩，蒸發(fā)鍍膜普遍使用的水晶，光控都不太好做進去。 ou6|;
*>d  
一般用時間來控制

ouyuu:磁控濺射的資料真沒有。 PO5/j  
這東西就是個大號離子源，用離子源轟擊靶材，然后靶材濺出到基板表面堆積成薄膜。
有兩種磁控濺射，一種是直接濺射成薄膜，一種是先濺射單質(zhì)，然后氧化或者氮化形成薄膜。 lw0l86^Y  
....... (2021-10-16 16:24)  ziCTvT