摘要：納米精度光學(xué)表面在光刻技術(shù)、同步輻射、空間觀測(cè)和慣約聚變等領(lǐng)域有重大需求。隨著裝備 性能需求的不斷提升，這些光學(xué)系統(tǒng)對(duì)光學(xué)零件面形精度和表面質(zhì)量的要求幾乎接近于物理極限，對(duì)光學(xué)制 造技術(shù)提出了更高挑戰(zhàn)，使光學(xué)制造成為納米制造技術(shù)的發(fā)展前沿。通過(guò)攻克納米量級(jí)材料去除的穩(wěn)定性、 復(fù)雜曲面可控補(bǔ)償和裝備運(yùn)動(dòng)軸性能設(shè)計(jì)等關(guān)鍵問(wèn)題，掌握了以磁流變和離子束拋光技術(shù)為代表的可控柔 體拋光技術(shù)，利用自主研發(fā)的拋光制造裝備和工藝實(shí)現(xiàn)了典型光學(xué)零件的納米精度制造，為國(guó)家相關(guān)科技項(xiàng) 目的順利實(shí)施提供有力的制造技術(shù)支撐。 pG yRX_;
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關(guān)鍵詞：納米精度制造；光學(xué)制造；可控柔體拋光；磁流變拋光；離子束拋光
