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三星將推出芯片新技術(shù):性能提高35%能耗降50%

發(fā)布:cyqdesign 2019-05-15 08:18 閱讀:6870
三星將于2021年向市場(chǎng)推出一項(xiàng)突破性的處理器技術(shù),對(duì)最基本的電子元件進(jìn)行根本性改造,使芯片性能提高35%,同時(shí)使能耗降低50%。據(jù)悉,當(dāng)?shù)貢r(shí)間周二三星在于加州圣克拉拉舉行的三星鑄造論壇(Samsung Foundry Forum)上宣布,這項(xiàng)名為“環(huán)繞柵極”(gate all around,GAA)的技術(shù)能夠?qū)π酒诵?span onclick="sendmsg('pw_ajax.php','action=relatetag&tagname=晶體',this.id)" style="cursor:pointer;border-bottom: 1px solid #FA891B;" id="rlt_6">晶體管進(jìn)行重新設(shè)計(jì)和改造,使其更小更快。 k`2 K?9\  
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圖示:三星的環(huán)繞柵極技術(shù)(GAA)能夠?qū)π酒?span onclick="sendmsg('pw_ajax.php','action=relatetag&tagname=晶體管',this.id)" style="cursor:pointer;border-bottom: 1px solid #FA891B;" id="rlt_8">晶體管進(jìn)行重新設(shè)計(jì)
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到2021年,應(yīng)用這種技術(shù)的芯片問(wèn)世后將成為三星與英特爾和臺(tái)積電等競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的交手中邁出的重要一步。三星希望借此加快芯片行業(yè)的發(fā)展步伐。近年來(lái),芯片行業(yè)一直難以克服極端小型化帶來(lái)的工程挑戰(zhàn)。 IS]0