《薄膜光學(xué)與薄膜技術(shù)基礎(chǔ)》是作者多年來從事薄膜光學(xué)與薄膜技術(shù)課程教學(xué)研究成果的總結(jié)�！侗∧す鈱W(xué)與薄膜技術(shù)基礎(chǔ)》共分三篇13章：第一篇分為4章，講述薄膜光學(xué)基本理論，內(nèi)容包括各向同性均勻和非均勻、各向異性均勻和非均勻、吸收和導(dǎo)電層狀介質(zhì)薄膜反射和透射特性計(jì)算；第二篇分為6章，分類講述增透膜、高反射膜、帶通濾光片、截止濾光片、帶阻濾光片和分光鏡的膜系構(gòu)成、特性描述及其應(yīng)用；第三篇分為3章，比較全面地介紹了物理氣相沉積、化學(xué)氣相沉積和液相沉積薄膜制備方法原理、光學(xué)薄膜檢測(cè)技術(shù)，以及一些金屬薄膜、半導(dǎo)體薄膜和介質(zhì)薄膜制備實(shí)例。鑒于薄膜光學(xué)與薄膜技術(shù)的飛速發(fā)展，《薄膜光學(xué)與薄膜技術(shù)基礎(chǔ)》在取材的深度和廣度上充分考慮到現(xiàn)代前沿科學(xué)領(lǐng)域的知識(shí)內(nèi)容。 ;Bs^iL  
(!</%^ZI  
Zu#<  
目錄 DY3:#X`4  
第一篇 薄膜元學(xué)基本理搶 p;->hn~D'5  
第1章 薄膜光學(xué)的電磁理論基礎(chǔ) 1 lB:l)!]||=  
1.1 麥克斯韋方程 1 !J^tg2M8:  
1.2 平面電磁波 6 ^k72{ 3N(  
1.2.1 復(fù)矢量波動(dòng)方程一一齊次矢量亥姆霍茲方程 6 {ymb\$f  
1.2.2 理想介質(zhì)中的平面波解 7 08r[K(bfb,  
1.2.3 吸收介質(zhì)中的平面波解 8 !S,pR
S+  
1.3 平均電磁能流密度光強(qiáng) 9 >q9{  
1.4 電磁波譜、光譜 10 vttrKVA  
習(xí)題 12 |- OHve4A  
參考文獻(xiàn) 12 !: |nI77|  
第2章 平面光波在兩介質(zhì)分界平面上的反射與透射 14 AbY;H  
2.1 各向同性理想介質(zhì)界面的反射與透射 14 !-(J-45  
2.1.1 S波反射與透射 14 ^5x4