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ASML光刻機(jī)入駐中國(guó)晶圓廠:投資25億美元 55nm工藝

發(fā)布:cyqdesign 2019-06-09 10:22 閱讀:9073
北京清芯華創(chuàng)投資公司投委會(huì)主席陳大同博士日前在報(bào)告中談到了中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)與世界一流水平的差距,其中封裝方面差距最小,最快5年追上,半導(dǎo)體制造上則需要10-15年,這部分也是國(guó)產(chǎn)最弱的一部分了。在半導(dǎo)體制造方面,國(guó)內(nèi)工藝最先進(jìn)的主要是SMIC中芯國(guó)際,28nm已經(jīng)量產(chǎn),14nm今年下半年量產(chǎn)。其次就是上海華虹集團(tuán),該公司建設(shè)了多個(gè)半導(dǎo)體制造項(xiàng)目,其中華虹六廠將在明年量產(chǎn)14nm工藝。