Zemax OpticStudio 19.4 現(xiàn)已發(fā)布！ pk zaNY/q DF= *_,2/ 在OpticStudio 19.4 中，ZPL編程界面新增了關(guān)鍵詞搜索
功能，ZOS-API中現(xiàn)已支持提取顏色
探測(cè)器、
材料庫以及幾何
圖像分析等分析數(shù)據(jù)，進(jìn)一步擴(kuò)展了OpticStudio編程的靈活性。在OS序列模式中新增加了CodeVTM文件導(dǎo)入工具，全面支持Binary 2和Zernike Fringe等面型的數(shù)據(jù)導(dǎo)入。此外在新版本中進(jìn)一步擴(kuò)展了格點(diǎn)矢高
優(yōu)化 (Grid Optimization) 工具的實(shí)用性。
uYN`:b8 Tx D#9]Q` 全新授權(quán)管理器 6'/ #+,d' OpticStudio 19.4 推出全新授權(quán)管理器，極大地改進(jìn)了授權(quán)的激活、轉(zhuǎn)移、管理和故障排除等相關(guān)進(jìn)程。全新授權(quán)管理器具有便捷的選項(xiàng)卡，將根據(jù)您所需要進(jìn)行的操作，直接提供給您相關(guān)性最高的
信息。您可以點(diǎn)擊合適的列標(biāo)題排列您的授權(quán)，例如按授權(quán)
序列號(hào)、服務(wù)期日期或產(chǎn)品類型進(jìn)行排列。當(dāng)按照產(chǎn)品類型排列授權(quán)時(shí)，用戶可以簡(jiǎn)單地選擇是否與某一OpticStudio或LensMechanix授權(quán)進(jìn)行交互。與此同時(shí)，故障排除選項(xiàng)卡可快速將用戶鏈接至恰當(dāng)?shù)馁Y源內(nèi)，極大地加速了授權(quán)問題解決的操作。
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\~W'v3:W q 1,~ ZPL宏編輯器內(nèi)搜索功能 {mg2pf hB! 如今，您可以通過ZPL宏編輯器內(nèi)的文本搜尋按鈕，便捷地進(jìn)行ZPL腳本語句搜索。在加速您對(duì)較長(zhǎng)的宏
文件編寫和編輯的同時(shí)，方便了您對(duì)拼寫錯(cuò)誤的查找。
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0S"MC9beg icgfB-1|i 通過ZOS-API查看非序列光線追跡中的能量損耗 t_^4`dW` 如今，可利用ZOS-API獲取非序列光線追跡中由于追跡錯(cuò)誤和閾值造成的總能量損耗信息。這些信息如同下圖界面中所顯示的一致：
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OpticStudio 19.4 版本說明。
