有望解決卡脖子問題:三強聯(lián)手研發(fā)高端光刻機
在半導體制造中,光刻是最重要的一個環(huán)節(jié),同時也是決定半導體工藝水平的關(guān)鍵,高端芯片要光刻多次,占到了制造成本的三分之一,目前全球的光刻機主要壟斷在荷蘭ASML、日本佳能、尼康手里。 國內(nèi)也是有光刻機研發(fā)生產(chǎn)能力的,不過技術(shù)水平比較低,國內(nèi)公司的光刻機主要用于90nm及以上的工藝,先進工藝上依然要依賴進口光刻機,但是這個局面有可能加速改變。 日前北京國望光學科技宣布,該公司價值10億元的增資方案已經(jīng)在北京產(chǎn)權(quán)交易所完成,該公司引入了中國科學院長春光學精密機械與物理研究所和中國科學院上海光學精密機械研究所作為戰(zhàn)略投資者,兩家機構(gòu)以無形資產(chǎn)作價10億元入股,對應(yīng)持股比例為33.33%。 |