在半導體制造中，光刻是最重要的一個環(huán)節(jié)，同時也是決定半導體工藝水平的關(guān)鍵，高端芯片要光刻多次，占到了制造成本的三分之一，目前全球的光刻機主要壟斷在荷蘭ASML、日本佳能、尼康手里。 (o/HLmr@Y  
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國內(nèi)也是有光刻機研發(fā)生產(chǎn)能力的，不過技術(shù)水平比較低，國內(nèi)公司的光刻機主要用于90nm及以上的工藝，先進工藝上依然要依賴進口光刻機，但是這個局面有可能加速改變。 S4j`