高NA(
數值孔徑)
物鏡常用于
光學顯微及光刻,并已廣泛在其他應用中得以使用。眾所周知,在高數值孔徑物鏡的使用中,電磁場矢量特性的影響是不可忽略的。一個眾所周知的例子就是由高NA(數值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓
光束時,焦斑的不對稱性:焦斑不再是圓的,而是拉長的。我們通過具體的物鏡
實例來說明了這些效應,并演示了如何在
VirtualLab Fusion中使用不同的
探測器分析焦斑。
vd>K=!
J +-_71rJc. 高數值孔徑物鏡的聚焦分析
!O=?n<Ex" u{Jv6K, 高數值孔徑(NA)物鏡廣泛用于光學光刻、顯微
系統等。在對焦斑的
模擬中考慮光的矢量性質是非常重要的。
1~BDtHW7`n r(sQI#
P 高數值孔徑(NA)物鏡系統的先進點擴散函數計算
!]c]:ed\C 1 o<l;: 當線性偏振高斯光束經高數值孔徑(NA)
非球面透鏡聚焦時,由于矢量效應,焦平面上的PSF呈現非對稱性。
CNwYQe-i x1:#rb' 有關更多信息,請發(fā)送郵件至:
support@infotek.com.cn /
support@infocrops.com q-c9YOz_ 網址:
http://www.infotek.com.cn /
http://www.honglun-seminary.com }$DLa#\- J6x#c`Y (來源:訊技光電)
Z4YQ5O5