高NA(
數(shù)值孔徑)
物鏡常用于
光學(xué)顯微及光刻,并已廣泛在其他應(yīng)用中得以使用。眾所周知,在高數(shù)值孔徑物鏡的使用中,電磁場矢量特性的影響是不可忽略的。一個眾所周知的例子就是由高NA(數(shù)值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓
光束時,焦斑的不對稱性:焦斑不再是圓的,而是拉長的。我們通過具體的物鏡
實例來說明了這些效應(yīng),并演示了如何在
VirtualLab Fusion中使用不同的
探測器分析焦斑。
L>0!B8X2 }Z"28? 高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦分析
FT<H]Nf gH5CB%) 高數(shù)值孔徑(NA)物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微
系統(tǒng)等。在對焦斑的
模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。
fVG$8tB (rAiDRQ[ 高數(shù)值孔徑(NA)物鏡系統(tǒng)的先進(jìn)點擴散函數(shù)計算
ss/h[4h4h `}[VwQ 當(dāng)線性偏振高斯光束經(jīng)高數(shù)值孔徑(NA)
非球面透鏡聚焦時,由于矢量效應(yīng),焦平面上的PSF呈現(xiàn)非對稱性。
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