ZEMAX光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)實(shí)戰(zhàn)	Zemax光學(xué)設(shè)計(jì)從基礎(chǔ)到實(shí)踐	成像衍射光學(xué)元件設(shè)計(jì)及應(yīng)用	現(xiàn)代光學(xué)與光子學(xué)技術(shù)
訊技光電:VirtualLab Fusion獨(dú)家供應(yīng)商	微小光學(xué)與微透鏡陣列	光學(xué)設(shè)計(jì)與光學(xué)元件	計(jì)算光學(xué)帶來(lái)的成像革命

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2019-11-27

摘要

眾所周知，光的矢量性質(zhì)在高NA聚焦情況下起著不可忽略的作用。在此示例中，展示了通過(guò)高NA非球面透鏡聚焦線性偏振高斯光束的案例，并顯示了焦平面中的非對(duì)稱PSF現(xiàn)象。通過(guò)檢查焦平面中的電磁場(chǎng)分量，可以發(fā)現(xiàn)不對(duì)稱性是由相對(duì)較強(qiáng)的Ez分量引起的。

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