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中芯國際稱7nm EUV光刻機(jī)問題已解決 技術(shù)研發(fā)步入正軌

發(fā)布:cyqdesign 2019-12-09 20:29 閱讀:2176
半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點之后,制造越來越困難,其中最復(fù)雜的一步——光刻需要用到EUV光刻機(jī)了,而后者目前只有荷蘭ASML阿斯麥公司才能供應(yīng)。中芯國際去年也訂購了一臺EUV光刻機(jī),日前該公司表示與ASML之間已解決光刻機(jī)的問題,EUV技術(shù)研發(fā)步入正軌。 ,_YI:xie|c  
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前不久有消息稱ASML停止對中芯國際供應(yīng)EUV光刻機(jī),隨后ASML公司表示不是停供,而是延期,主要是在準(zhǔn)備該國政府的出口申請文本工作。 I^f|U