摘要：針對(duì)某同軸兩反光學(xué)系統(tǒng)的空間布局特點(diǎn)設(shè)計(jì)了內(nèi)遮光罩，并對(duì)內(nèi)遮光罩不同的高度和直徑參數(shù)進(jìn)行了系統(tǒng)的雜散光分析，繪制了系統(tǒng)東西方向和南北方向的點(diǎn)源透射率（ＰＳＴ）曲線并得到系統(tǒng)像面處的輻照度，從而為內(nèi)遮光罩的雜散光抑制能力提供了量化的對(duì)比結(jié)果，便于內(nèi)遮光罩進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì)。通過(guò)雜散光分析，并對(duì)內(nèi)遮光罩的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度等參數(shù)進(jìn)行有限元分析（ＦＥＡ）校核，確定了該口徑為３２０ｍｍ 的同軸兩反光學(xué)系統(tǒng)的內(nèi)遮光罩高度為１００ｍｍ，直徑為４４．８ｍｍ，使得該遮光罩結(jié)構(gòu)在滿足空間遙感器力學(xué)性能的要求下達(dá)到雜散光抑制的最佳效果，實(shí)現(xiàn)了雜散光分析及基于結(jié)構(gòu) ＦＥＡ 的優(yōu)化設(shè)計(jì)。 *YY:JLe
X*C4N F0
關(guān)鍵詞：成像系統(tǒng)；同軸兩反光學(xué)系統(tǒng)；雜散光分析；點(diǎn)源透射率；內(nèi)遮光罩
