芯片漏電定位微光顯微鏡分析技術EMMI(微光顯微鏡) 對于失效分析而言,微光顯微鏡是一種相當有用,且效率極高的分析工具,主要偵測IC內(nèi)部所放出光子。在IC原件中,EHPRecombination會放出光子,例如:在PN Junction加偏壓,此時N的電子很容易擴散到P, 而P的空穴也容易擴散至N,然后與P端的空穴做EHP Recombination。 偵測到亮點之情況 會產(chǎn)生亮點的缺陷:1.漏電結;2.解除毛刺;3.熱電子效應;4閂鎖效應; 5氧化層漏電;6多晶硅須;7襯底損失;8.物理損傷等。偵測不到亮點之情況 不會出現(xiàn)亮點之故障:1.亮點位置被擋到或遮蔽的情形(埋入式的接面及 大面積金屬線底下的漏電位置);2.歐姆接觸;3.金屬互聯(lián)短路;4.表面 反型層;5.硅導電通路等。 點被遮蔽之情況:埋入式的接面及大面積金屬線底下的漏電位置,這種情 況可采用Backside模式,但是只能探測近紅外波段的發(fā)光,且需要減薄及拋光處理。 測試范圍: 故障點定位、尋找近紅外波段發(fā)光點 測試內(nèi)容: 1.P-N接面漏電;P-N接面崩潰 2.飽和區(qū)晶體管的熱電子 |