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本帖被 cyqdesign 從 光學(xué)設(shè)計(jì)及經(jīng)驗(yàn) 移動(dòng)到本區(qū)(2020-11-10)
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摘要：基于面形斜率的高斯徑向基自由曲面模型在面形表征和系統(tǒng)設(shè)計(jì)中具有優(yōu)勢(shì)，但基函數(shù)數(shù)目較多，導(dǎo)致優(yōu)化效率低、公差分析困難等問題。本文對(duì)基于面形斜率的高斯徑向基模型優(yōu)化設(shè)計(jì)和公差分析方法開展研究，利用模型的面形表征局域特性，將全局優(yōu)化和局部優(yōu)化相結(jié)合，提出了一種新的優(yōu)化設(shè)計(jì)方法。利用數(shù)學(xué)統(tǒng)計(jì)的方法，確定了基函數(shù)系數(shù)和自由曲面面形矢高之間的線性關(guān)系，直接設(shè)定系數(shù)公差范圍初值，通過大樣本統(tǒng)計(jì)后確定自由曲面的合理面形公差。將該優(yōu)化設(shè)計(jì)和公差分析方法應(yīng)用到基于面形斜率的高斯徑向基自由曲面型頭戴顯示系統(tǒng)，設(shè)計(jì)結(jié)果表明：頭戴顯示系統(tǒng)全視場(chǎng)內(nèi)在23 lp/mm處大于0.3，系統(tǒng)最大畸變?yōu)?.45%，達(dá)到了系統(tǒng)設(shè)計(jì)指標(biāo)，并基于公差分析結(jié)果進(jìn)行實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)集成，成功實(shí)現(xiàn)了圖像顯示。本文所提出的優(yōu)化設(shè)計(jì)方法和公差分析方法為基于面形斜率的高斯徑向基自由曲面模型和其他局域型自由曲面模型的應(yīng)用提供了重要的借鑒意義。 $q\"d?n
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關(guān)鍵詞 ： 光學(xué)自由曲面, 高斯徑向基, 面形斜率, 設(shè)計(jì), 公差
