近日，美國泛林公司宣布與 ASML 阿斯麥、 IMEC 比利時微電子中心合作開發(fā)了新的EUV 光刻技術(shù)，不僅提高了 EUV 光刻的良率、分辨率及產(chǎn)能，還將光刻膠的用量最多降至原來的 1/10 ，大幅降低了成本。 X(O:y^sX}  
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泛林 Lam Research 的名字很多人不清楚， 前不久中芯國際宣布的 6 億美元半導(dǎo)體設(shè)備訂單就是購買的泛林的產(chǎn)品 。 '0^lMQMg  
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泛林是一家美國公司，也是全球半導(dǎo)體裝備行業(yè)的巨頭之一，與應(yīng)用材料、 KLA 科磊齊名， 2019 年營收 95 億美元，在全球半導(dǎo)體裝備行業(yè)位列第四，僅次于 ASML 、 TEL 日本東京電子及 KLA 。 S}VN(g  
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泛林生產(chǎn)的設(shè)備主要是蝕刻機、 CVD （化學(xué)氣相沉積）、清洗、鍍銅等設(shè)備，其中來自中國市場的客戶是第一大來源。 G)?j(El  
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