中科院今天宣布，國內(nèi)學(xué)者研發(fā)出了一種簡單的制備低維半導(dǎo)體器件的方法——用“納米畫筆”勾勒未來光電子器件，它可以“畫出”各種需要的芯片。隨著技術(shù)的發(fā)展，人們對半導(dǎo)體技術(shù)的要求越來越高，但是半導(dǎo)體制造難度卻是越來越大，10nm以下的工藝極其燒錢，這就需要其他技術(shù)。 m?fy^>1  
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中科院表示，可預(yù)期的未來，需要在更小的面積集成更多的電子元件。針對這種需求，厚度僅有0.3至幾納米（頭發(fā)絲直徑幾萬分之一）的低維材料應(yīng)運(yùn)而生。 ?ztkE62t  
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這類材料可以比作超薄的紙張，只是比紙薄很多，可以用于制備納米級別厚度的電子器件。 g8xQ|px  
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從材料到器件，現(xiàn)有的制備工藝需要經(jīng)過十分繁瑣復(fù)雜的工藝過程，這對快速篩選適合用于制備電子器件的低維材料極為不利。 MET'
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近日，中科院上海技術(shù)物理研究所科研人員研發(fā)出了一種簡單的制備低維半導(dǎo)體器件的方法——用“納米畫筆”勾勒未來光電子器件。 LNpup`>`  
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