芯片失效分析方法芯片失效分析檢測方法匯總 失效分析 趙工 1 、C-SAM(超聲波掃描顯微鏡),無損檢查:1.材料內部的晶格結構,雜質顆粒.夾雜物.沉淀物.2. 內部裂紋. 3.分層缺陷.4.空洞,氣泡,空隙等. 德國 2 、X-Ray(這兩者是芯片發(fā)生失效后首先使用的非破壞性分析手段),德國Fein 微焦點Xray用途:半導體BGA,線路板等內部位移的分析 ;利于判別空焊,虛焊等BGA焊接缺陷. 參數:標準檢測分辨率<500納米 ;幾何放大倍數: 2000 倍 最大放大倍數: 10000倍 ; 輻射小: 每小時低于1 μSv ;電壓: 160 KV, 開放式射線管設計 防碰撞設計;BGA和SMT(QFP)自動分析軟件,空隙計算軟件,通用缺陷自動識別軟件和視頻記錄。這些特點非常適合進行各種二維檢測和三維微焦點計算機斷層掃描(μCT)應用。 Fein微焦點X射線(德國) Y.COUGAR F/A系列可選配樣品旋轉360度和傾斜60度裝置。 Y.COUGAR SMT 系列配置140度傾斜軸樣品,選配360度旋轉臺 3 、SEM掃描電鏡/EDX能量彌散X光儀(材料結構分析/缺陷觀察,元素組成常規(guī)微區(qū)分析,精確測量元器件尺寸), 日本電子 4 、EMMI微光顯微鏡/OBIRCH鐳射光束誘發(fā)阻抗值變化測試/LC 液晶熱點偵測(這三者屬于常用漏電流路徑分析手段,尋找發(fā)熱點,LC要借助探針臺,示波器) |