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ASML研發(fā)下一代EUV光刻機:分辨率提升70% 逼近1nm極限
ASML研發(fā)下一代EUV光刻機:分辨率提升70% 逼近1nm極限
發(fā)布:
cyqdesign
2020-03-16 22:11
閱讀:
9458
在
EUV
光刻機
方面,荷蘭
ASML
(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機,去年出貨26臺,創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機,預(yù)計在2022年開始出貨。根據(jù)ASML之前的報告,去年他們出貨了26臺EUV光刻機,預(yù)計2020年交付35臺EUV光刻機,2021年則會達(dá)到45臺到50臺的交付量,是2019年的兩倍左右。
/Q