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上海光機所在數(shù)字化超精密子孔徑拋光中頻誤差創(chuàng)成機制研究中取得進展

發(fā)布：cyqdesign 2020-03-17 17:03 閱讀：15912
近期，中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所精密光學(xué)制造與檢測中心研究團隊在光學(xué)元件表面中頻誤差創(chuàng)成機制的研究中取得新進展。提出了分段路徑卷積模型和光順理論，成功定量預(yù)測加工導(dǎo)致的中頻誤差幅值和形貌分布。相關(guān)成果于3月13日發(fā)表在[Optics Express, 28, 8959-8973 (2020)]。 :e-&,K