1. 摘要   %VgK::)r  
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高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對(duì)此類鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析。通過場(chǎng)追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對(duì)稱現(xiàn)象。利用相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器能夠?qū)�聚焦區(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對(duì)矢量效應(yīng)的理解。 h&IF?h  
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2. 建模任務(wù) g);.".@"  
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圖片:1-200509110335414.png

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3. 概述 Z4PAdT  
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 示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡 ;