1. 摘要   o=mo/N4  
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高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對(duì)此類鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析。通過(guò)場(chǎng)追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對(duì)稱現(xiàn)象。利用相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器能夠?qū)�聚焦區(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對(duì)矢量效應(yīng)的理解。 $_bZA;EMQ  
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2. 建模任務(wù) )JX$/- RD-  
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3. 概述 tQ[]Rc  
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 示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡 P5
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 下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。 u GIr&`S  
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4. 光線追跡仿真 Ge1duRGa  
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 首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。 V" }*"P-%  
 點(diǎn)擊“Go!”。 "5(W[$f*]v  
 隨即獲得3D光線追跡結(jié)果 m:"+J  
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 然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。 r},lu=em  
 點(diǎn)擊“Go!”。 b?>VPuyBb  
 隨即獲得點(diǎn)列圖(2D光線追跡結(jié)果)。 j"0rkN3$J  
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