作為半導(dǎo)體卡脖子的技術(shù)之一，很多人只知道光刻機(jī)，卻不知道光刻膠的重要性，這個(gè)市場也是被日本及美國公司壟斷，TOP5廠商占了全球85%的份額。國產(chǎn)光刻膠此前只能用于低端工藝生產(chǎn)線中，能做到G 線（436nm）、I 線 （365nm）水平，目前主要在用的ArF光刻膠還是靠進(jìn)口，EUV光刻膠目前還沒有公司能生產(chǎn)，基本上都控制在日本公司手中。 '7XIhN9  
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不過EUV光刻膠也不是急需的，因?yàn)閲鴥?nèi)目前還沒有EUV工藝量產(chǎn)，193nm的ArF光刻膠更加重要，目前國內(nèi)有多家公司正在攻關(guān)中，這種光刻膠可以用于28nm到7nm工藝的先進(jìn)工藝。 &Z`#cMR{H  
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